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9納米光刻機問世

來源：成都新德南光機械設備有限公司 | 發布時間：2019-04-24 |

中國9納米光刻機成功問世！不走尋常路，打破西方技術封鎖
光刻機，也稱為光刻曝光系統，是人類文明的主要技術之一，其主要目標是制造芯片。到目前為止，任何優質芯片必須具有非常重要的光刻機。這是可以做到的，我們必須承認，這樣的發達國家美國在這方面已經做得很好了，中國在這一領域始終受制于他人。西方等發達國家形成的技術壁壘完全阻礙了科學技術領域的研究，這個定制也使得中國在芯片領域沒有太大的發展。因此，很久以前，中國有大量投資開發自己的芯片制造機器，即光刻機。
 
光刻機性能指數可以從許多方面，如支撐基片尺寸范圍、分辨率、精度的對準和曝光模式進行評估。近日，據來自媒體報道，中國武漢光電中心甘棕松團隊是完全自身發展的成功執行線段9納米的光刻學習，你可以說它是一種非常規的方式，這打破了西方國家的技術壁壘。作為芯片制造領域的關鍵器件，最好的光刻機技術一直掌握在西方發達國家手中。最重要的是，這些設備都很難買到。因為所有的西方國家知道，一旦中國支配這種類型的光刻機不可避免地會大力進行在芯片領域的發展，因此，威脅發達國家市場在芯片領域長期存在。
 
在光技術制造的專家小組稱高科技制造業的傳統方式是完全無法實現光刻機的精度高，所以它只能做通過其他方法的光刻機來屬于我們中國，但離工業生產有一段時間。但這肯定是一個良好的開端，這也為西方國家敲響了警鐘，簡單的技術封鎖無法阻止中國的發展。